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Magnétron Sputtering - Chambres AJA

2 chambres de dépôts

2 magnétrons et 1 nanosource

3 magnétrons confocaux

Dépôts de couches
(vitesses de dépôt : typiquement quelques nm par minute)
  • Ta,Fe,Cr,Au
  • TiO2, VO2, TiN
  • AZOY
  • MgXZnYAlZ
  • Nanoparticules Au, Cu, Co
  • Multicouches empilées SiO2/TiO2
  • 3 alimentations DC
  • 2 alimentations RF
  • Introduction de gaz réactif pour les dépôts d’oxyde, nitride
  • Sonde lambda pour le contrôle des hystérèses
  • Décapage échantillon sous vide
  • Chauffage échantillon durant le dépôt
  • Quartz control monitor
  • Possibilité de programmer des macros pour un dépôt automatique séquentiel (empilements de couches minces pour propriétés optiques,…)
  • Machine simple à utiliser (nombreux utilisateurs au labo si besoin d’aide !)
  • Echantillons : lames de verre, ou pastilles 20 mm, ou galettes 3 pouces
  • Contrôle optimal des épaisseurs déposées !

Contact : Stéphane Lucas (LARN) - + 32 81 72 54 81